特許
J-GLOBAL ID：200903051160636776
印刷用凹版とそれを用いたオフセツト印刷方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-302939
公開番号（公開出願番号）：特開平5-139065
出願日： 1991年11月19日
公開日（公表日）： 1993年06月08日
要約：
【要約】【目的】 本発明は、印刷線幅が50ミクロン以下で、かつ厚みが10ミクロン以上、あるいは凹版溝中のインキの完全転写印刷が可能となる印刷用凹版とそれを用いたオフセット印刷法とを提供することを目的とする。【構成】 印刷用凹版10の凹部にスクレーバー4を用いてインキ5を充填する。次いで、最表層をシリコーンゴムで被覆した転写体としての円筒型ローラ11を印刷用凹版10上で押圧力をかけつつ回転させて、円筒型ローラ11上にインキ5を転写する。その後、被印刷体3上で押圧力をかけつつ円筒型ローラ11を回転させることにより、被印刷体上に厚み12ミクロンから13ミクロンの厚膜微細線が印刷できる。これにより、印刷線幅が50ミクロン以下で、かつ厚みが10ミクロン以上、あるいは凹版溝中のインキの完全転写印刷が可能である印刷用凹版とそれを用いたオフセット印刷法とを得る。
請求項（抜粋）：
基材に形成された凹部の表面のみを、シリコーンゴムで被覆したことを特徴とする印刷用凹版。
IPC (3件)：
B41N 1/06
, B41M 1/10
, H05K 3/12
