特許
J-GLOBAL ID：200903051162145109
半導体製造工程の排ガス管理方法及びその装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
澤 喜代治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-112028
公開番号（公開出願番号）：特開平9-271628
出願日： 1996年04月08日
公開日（公表日）： 1997年10月21日
要約：
【要約】【目的】 本発明は、半導体製造装置に接続された排ガス処理装置の状態を監視手段で監視し、この監視結果に基づき異常発生の恐れがある時或いは異常発生時に排ガス処理装置における異常発生の恐れがある箇所或いは異常発生箇所を集中管理室に通信させることによってその対応を迅速且つ確実に、しかも安全に行い得る半導体製造工程の排ガス管理方法を提供することを目的とする。【構成】 本発明は、半導体製造装置に接続された排ガス処理装置の状態を監視手段で監視し、この監視結果を記録手段に記録し、異常発生時及び/又は任意の時点でこの記録を出力する一方、この監視結果に基づき異常発生の恐れがある時或いは異常発生時に排ガス処理装置における異常発生の恐れがある箇所或いは異常発生箇所を集中管理室に通信させること特徴とする。
請求項（抜粋）：
半導体製造装置に接続された排ガス処理装置の状態を監視手段で監視し、この監視結果を記録手段に記録し、異常発生時及び/又は任意の時点でこの記録を出力する一方、この監視結果に基づき異常発生の恐れがある時或いは異常発生時に排ガス処理装置における異常発生の恐れがある箇所或いは異常発生箇所を集中管理室に通信させること特徴とする半導体製造工程の排ガス管理方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
B01D 53/34 Z
, H01L 21/02 Z
