特許
J-GLOBAL ID:200903051172682412

被検体のコンピュータ断層X線写真の形成方法及び装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 杉村 興作 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-295638
公開番号(公開出願番号):特開2002-172114
出願日: 2001年09月27日
公開日(公表日): 2002年06月18日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】散乱補正を改善し得るコンピュータ断層X線写真の形成方法及びコンピュータ断層X線撮影装置を提供する。【解決手段】散乱放射の分布を、実行する測定法のために、二次元のマルチセル検出器フィールド3内にて直接放射から遮蔽される検出器セル7’によって測定する。この散乱放射分布を用いて、隣接している直接照射される検出器セル7の散乱補正を行う。さらに、散乱プロセスのコンピュータシミュレーションによって散乱補正を行うことができる。このためにはモンテカルロ法を用い、且つ測定装置、患者の大きさ、被照射組織等の形状寸法及び物質組成を考慮に入れるのが好適である
請求項(抜粋):
X線源と検出器フィールドとから成る測定装置内にて照射される被検体のコンピュータ断層X線写真を形成する方法であって検出器フィールドにて測定される放射強度を散乱補正し、且つ検出器フィールドを二次元のマルチセルフィールドとし、該マルチセルフィールドの直角に画成されない部分がX線源による直接照射から遮蔽される、被検体のコンピュータ断層X線写真を形成する方法において、前記検出器フィールドの前記遮蔽部分における放射強度を測定し、且つ該放射強度を、前記検出器フィールドの前記直接照射部分における測定値の散乱補正用に用いることを特徴とする被検体のコンピュータ断層X線写真の形成方法。
IPC (3件):
A61B 6/03 350 ,  A61B 6/03 321 ,  G01T 1/161
FI (3件):
A61B 6/03 350 K ,  A61B 6/03 321 Q ,  G01T 1/161 C
Fターム (14件):
2G088EE02 ,  2G088FF02 ,  2G088JJ05 ,  2G088JJ29 ,  2G088KK33 ,  2G088LL09 ,  2G088LL27 ,  4C093AA22 ,  4C093BA10 ,  4C093CA07 ,  4C093EB17 ,  4C093EB28 ,  4C093FC26 ,  4C093FF01

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