特許
J-GLOBAL ID：200903051187075113

研磨用組成物

発明者：
大脇 寿樹

大脇 寿樹 について


出願人/特許権者：
株式会社フジミインコーポレーテッド

株式会社フジミインコーポレーテッド について


代理人 (1件)： 佐々木 宗治 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-012878
公開番号（公開出願番号）：特開平7-216345
出願日： 1994年02月04日
公開日（公表日）： 1995年08月15日
要約：
【要約】【目的】 高品質の研磨面を研磨能率を維持しながら作業性が良好で加工コストの低減を可能とする研磨用組成物を提供する。【構成】 水とアルミナ質研磨材及びモリブデン酸塩と有機酸とからなる研磨促進剤さらにはアルミナゾルからなるメモリーハードディスクの研磨用組成物である。そして前記モリブデン酸塩がモリブデン酸アンモニウム、モリブデン酸リチウム、モリブデン酸ナトリウム及びモリブデン酸カリウムから選ばれた1種または2種以上であり、また前記有機酸がグリコール酸、リンゴ酸、酒石酸、グリセリン酸、乳酸、クエン酸、マンデル酸、マロン酸、アスコルビン酸、グルタミン酸、グリオキシル酸、グリシン、及びグルコン酸から選ばれた1種または2種以上であり、さらに、研磨促進剤の合計含有量が0.01〜10重量%で、またアルミナゾルの含有量が0.1〜5重量%で、アルミナ質研磨材の含有量が2〜25重量%で、研磨材の平均粒子径が0.3〜10μmである研磨用組成物である。
請求項（抜粋）：
水とアルミナ質研磨材及び研磨促進剤からなり、前記研磨促進剤がモリブデン酸塩と有機酸とからなることを特徴とする研磨用組成物。
IPC (4件)：
C09K 3/14 550 ,  C09K 3/14 ,  B24D 3/00 ,  G11B 5/84
引用特許：
審査官引用 (3件)

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