特許

J-GLOBAL ID：200903051187093464

ポリジエンの気相製造

発明者： カン,ケビン ジョーゼフ ,  アペセツェ,マリア アンジェリカ ,  ムーアハウス,ジョン ヘンリー ,  ムルガナンダム,ナタラジャン ,  スミス,グレゴリー ジョージ ,  ウィリアムズ,ゲアリー ハリー
出願人/特許権者： ユニオン カーバイド ケミカルズ アンド プラスティックス テクノロジー コーポレイション
代理人 (1件)： 倉内 基弘 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-506751
公開番号（公開出願番号）：特表2001-527582
出願日： 1995年08月02日
公開日（公表日）： 2001年12月25日
要約：

【要約】気相反応装置において、ブタジエン又はイソプレンモノマー及び随意に不活性ガスの流れを重合域中に遷移金属触媒の存在においてかつ不活性粒状物質の存在において、重合域内の温度を該重合域中に存在するモノマーの露点よりも低く保ちながら連続に導入することによりポリブタジエン又はポリイソプレンを製造する方法。

請求項（抜粋）：

ポリブタジエン又はポリイソプレンを、重合域を有する撹拌式床又はガス流動重合容器において重合反応条件下で製造する方法であって、下記: (i)ブタジエン又はイソプレンモノマーを、成長中のポリマー粒子の床を収容する該重合域中に不活性粒状物質及び随意に少なくとも一種の不活性ガスの存在において導入し; (ii)ニッケル、コバルト、チタン、又はこれらの混合物の金属成分を含有する重合触媒、助触媒、及び随意にプロモーターをを該重合域中に連続に又は間欠に導入し; (iii)ポリブタジエン又はポリイソプレン生成物を該重合域から連続に又は間欠に抜き出し;及び (iv)未反応のブタジエン又はイソプレン該重合域から抜き出し、該ブタジエン又はイソプレン及び存在する場合には該不活性ガスを圧縮し及び冷却し、その間該重合域内の温度を該重合域中に存在するモノマーの露点よりも低く保つことを含む方法。

IPC (5件)：

C08F 2/34 ,  B60C 1/00 ,  C08F 4/64 ,  C08F 4/70 ,  C08F 36/04

FI (5件)：

C08F 2/34 ,  B60C 1/00 Z ,  C08F 4/64 ,  C08F 4/70 ,  C08F 36/04