特許
J-GLOBAL ID：200903051216775456

静電潜像の液体現像方法及び液体現像装置

発明者：
板谷 正彦

板谷 正彦 について

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斉藤 俊浩

斉藤 俊浩 について

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佐々木 努

佐々木 努 について

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田中 祥行

田中 祥行 について


出願人/特許権者：
新日本製鐵株式会社

新日本製鐵株式会社 について


代理人 (1件)： 半田 昌男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-251440
公開番号（公開出願番号）：特開平7-209998
出願日： 1994年09月20日
公開日（公表日）： 1995年08月11日
要約：
【要約】【目的】 プリウェット液を均一な厚みで塗布することができる静電潜像の液体現像方法及び液体現像装置を提供する。【構成】 感光体10上に形成された静電潜像をトナーによって現像する静電潜像の液体現像方法であって、離型性を有し化学的に不活性な誘電性液であるプリウェット液を含浸した通液性及び保液性のある部材で形成されたプリウェット液供給体を、感光体10に当接させることにより感光体10上にプリウェット液を塗布するプリウェット工程と、現像ローラ506上に塗布された高濃度高粘性の液体現像剤を感光体10に接触させることにより、感光体10の潜像面に液体現像剤を供給する現像工程とを備える。
請求項（抜粋）：
画像支持体上に形成された静電潜像を、帯電した顕像化粒子であるトナーによって現像する静電潜像の液体現像方法であって、現像工程に先立って、離型性を有し化学的に不活性な誘電性液であるプリウェット液を通液性及び保液性のある部材で形成されたプリウェット液供給体に含浸させ、前記プリウェット液供給体を前記画像支持体に当接させることにより前記画像支持体上に前記プリウェット液を塗布するプリウェット工程と、現像剤支持体上に塗布された絶縁性液体中にトナーが高濃度に分散された100〜10000mPa・sの高粘度の液体現像剤を、前記画像支持体に接触させることにより、前記画像支持体の潜像面に前記液体現像剤を供給する現像工程と、を備えることを特徴とする静電潜像の液体現像方法。
引用特許：
審査官引用 (24件)
  • 特開平3-293384
  • 特開昭55-143565
  • 特開平4-156486
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