特許

J-GLOBAL ID：200903051229161449

原盤露光装置

発明者： 杉山 寿紀 ,  吉弘 昌史 ,  今井 奨 ,  石崎 修 ,  島崎 勝輔
出願人/特許権者： 日立マクセル株式会社
代理人 (1件)： 川北 喜十郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-323745
公開番号（公開出願番号）：特開平10-188333
出願日： 1997年11月10日
公開日（公表日）： 1998年07月21日
要約：

【要約】【課題】 情報ピットの微小化および狭トラックピッチ化に対応した狭溝化を実現することができる原盤露光装置を提供する。【解決手段】 原盤露光装置はフォトレジスト20を塗布した原盤19にレーザ光4集光する光学素子としてNA>1を満たす固体イマージョンレンズ17を用いる。固体イマージョンレンズ17とフォトレジスト20との間隔をエバネッセント光の減衰距離内に維持するために静圧エアスライダ16aを用いる。制御された流量のエアは管30を通じて静圧エアスライダ16aのエア吹出口30から吹き出される。エアスライダ16aはホルダ32によりベース28のシリンダ部28a内にエアベアリング機構を介して支持されている。

請求項（抜粋）：

フォトレジストを塗布した記録媒体製造用原盤にレーザ光を集光して照射することによりフォトレジストを所望のパターンに感光する原盤露光装置において、上記レーザ光を集光するための光学素子としてNA>1を満たす固体イマージョンレンズを用い、上記固体イマージョンレンズと上記フォトレジストを塗布した原盤の距離をエバネッセント光の減衰距離内の一定の距離に保つ手段を備えることを特徴とする原盤露光装置。