特許

J-GLOBAL ID：200903051230490715

高純度水の製造方法

発明者： 橋本 浩幸 ,  高橋 剛 ,  佐藤 美奈 ,  中沢 猛 ,  葛巻 貞司
出願人/特許権者： コニカ株式会社 ,  オルガノ株式会社
代理人 (1件)： 森 浩之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-122418
公開番号（公開出願番号）：特開平7-088474
出願日： 1991年04月25日
公開日（公表日）： 1995年04月04日
要約：

【要約】【目的】 逆浸透膜を使用して高純度の脱イオン水を製造する際に逆浸透膜の単独使用では、逆浸透膜の汚染が比較的早く起こり、脱イオン水製造を継続するためには前記逆浸透膜の交換や回生処理を行う必要があるが、逆浸透膜の回生処理は薬剤を使用するためコストと手間が掛かるだけでなく使用済薬剤の廃棄による環境汚染の問題が生ずる。本発明は簡便な手法で逆浸透膜の汚染を防止し長期間に亘って高純度脱イオン水の製造を継続できる方法を提供することを目的とする。【構成】 不純物を含有する原水を、まず固定床型三次元電極電解槽2により処理して微生物や硬度成分を除去した後、逆浸透膜8を装着した高純度脱イオン水製造装置9等に導き脱イオンすることにより、前記原水中の微生物等の不純物が殆ど逆浸透膜に接触しないようにする。

請求項（抜粋）：

不純物イオンを含有する原水を逆浸透膜を透過させることにより前記不純物イオンを除去して高純度水を製造する方法において、前記原水を固定床型三次元電極電解槽に供給し該原水を電気化学的に処理した後に前記逆浸透膜を透過させることを特徴とする高純度水の製造方法。

IPC (4件)：

C02F 1/44 ,  B01D 61/04 ,  B01D 65/08 ,  C02F 1/46

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭61-149288
  
• 特開昭59-087093
  
• 特開昭49-082170
  
• 特開昭49-033469