プラズマ処理方法,プラズマ処理の改善方法及びプラズマ処理装置

発明者： ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (3件)：金本哲男 , 亀谷美明 , 萩原康司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-010750
公開番号（公開出願番号）：特開2004-227796
出願日： 2003年01月20日
公開日（公表日）： 2004年08月12日
要約：

【課題】マイクロ波を利用したプラズマ処理装置を使用してプラズマ処理する際に,スロットアンテナと下方の誘電体窓との間のギャップを最適にして,整合を取りやすくし,またプラズマに対する電力の投入効率を改善する。【解決手段】マイクロ波供給装置36から同軸導波管35に対してマイクロ波が供給され,アンテナ部材31のスロットアンテナ32からリークした電磁界が誘電体窓22を透過して処理容器2内にプラズマを発生させる。スロットアンテナ32と誘電体窓22間のギャップGの長さdを,マイクロ波がギャップGを通過する波長の1/4程度にする。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

処理容器の上部開口部を気密に覆う誘電体窓と,下面に平板状のスロットアンテナ又は中心部が凹状若しくは凸状の傘形アンテナを有して前記誘電体窓の上方にギャップをおいて配置されたアンテナ部材と,マイクロ波供給装置からのマイクロ波を前記アンテナ部材に伝搬させる導波管とを有し,マイクロ波の供給によって発生したプラズマによって,処理容器内の基板に対して処理を施すプラズマ処理装置を用い, 前記誘電体窓の厚さを,前記マイクロ波の前記誘電体窓を通過する際の波長の約1/2とし, さらに前記ギャップの長さをdとしたとき, 2<d<6mmとなるように,前記ギャップの長さを設定してプラズマ処理を施すことを特徴とする,プラズマ処理方法。

IPC (6件)：

H05H1/46 , B01J3/00 , B01J19/08 , C23C16/511 , H01L21/3065 , H01L21/31

FI (6件)：

H05H1/46 B , B01J3/00 J , B01J19/08 H , C23C16/511 , H01L21/31 C , H01L21/302 101D

Fターム (21件)：

4G075AA24 , 4G075AA30 , 4G075BC04 , 4G075BC06 , 4G075CA26 , 4G075CA47 , 4G075CA65 , 4K030FA01 , 4K030JA01 , 4K030JA09 , 4K030KA30 , 4K030KA45 , 5F004AA16 , 5F004BA20 , 5F004BB14 , 5F004BB18 , 5F004CA06 , 5F004CA09 , 5F045AA08 , 5F045EH03 , 5F045EH19

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