特許
J-GLOBAL ID：200903051237348043
重合わせ精度測定マーク
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
深見 久郎 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-252080
公開番号（公開出願番号）：特開平8-116141
出願日： 1994年10月18日
公開日（公表日）： 1996年05月07日
要約：
【要約】【目的】 X方向の重合わせ精度の測定とY方向の重合わせ精度の測定とが別々の層であっても、同時にX方向およびY方向の重合わせ精度を測定することのできる重合わせ精度測定用マークを提供する。【構成】 それぞれ異なる層に第1測定マーク110Bと第2測定マーク112Bと第3測定マーク114Dとが積層するように配置され、かつ第1測定マーク110Bは、Y方向に沿って平行な第1側壁10aおよび第2側壁10bを有し、第2測定マーク112Bは、X方向に沿って平行な第3側壁12aおよび第4側壁12bを有し、第3測定マーク114Dは、X方向に沿って平行な第5側壁14aおよび第6側壁14bと、Y方向に沿って平行な第7側壁14cおよび第8側壁14dとを有している。
請求項（抜粋）：
半導体基板上の第1の層に形成された第1測定マークと、前記第1測定マークの略上方において、前記第1の層の上の第2の層に形成された第2測定マークと、前記第1測定マークおよび前記第2測定マークの略上方において、前記第2の層の上の第3の層に形成され、前記第1測定マークとともに用いて、前記第1の層と前記第3の層とのX方向のずれと、前記第2測定マークとともに用いて、前記第2の層と前記第3の層とのY方向のずれとを測定するための第3測定マークと、を備え、前記第1測定マークは、前記Y方向に沿って平行に第1の間隔で配置された第1側壁および第2側壁を含み、前記第2測定マークは、前記X方向に沿って平行に第2の間隔で配置された第3側壁および第4側壁を含み、前記第3測定マークは、前記Y方向に沿って平行に前記第1の間隔とは異なる第3の間隔で配置された第5側壁および第6側壁と、前記X方向に沿って平行に前記第2の間隔とは異なる第4の間隔で配置された第7側壁および第8側壁とを含む、重合わせ精度測定マーク。
IPC (2件)：
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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