特許
J-GLOBAL ID：200903051249002290
露光条件決定方法とその装置ならびに半導体装置の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
筒井 大和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-290302
公開番号（公開出願番号）：特開平11-288879
出願日： 1998年10月13日
公開日（公表日）： 1999年10月19日
要約：
【要約】【課題】 最適露光条件を決定する作業において、データの収集および整理,写真の整理を手間なく簡単、迅速かつ正確に行え、最適条件の迅速な決定を支援できる方法および装置を実現する。【解決手段】 測長SEM等の顕微鏡装置4から条件出し作業によって得られる寸法・判定、および画像をネットワーク69を介して収集し、測定ポイント、フォーカス値,露光量,寸法値,パターン判定などのデータと画像をリンクさせてサーバ8のデータベース9に保存しておき、サーバ8で最適条件を自動的に決定し、事務所などに設置してあるパーソナルコンピュータ等の事務所PC11で、そのデータを検索・処理して、画面上に寸法,パターン判定,画像を並べて表示させること、寸法特性グラフを表示させること、さらに最適条件を提示することによって達成される。
請求項（抜粋）：
露光装置におけるフォーカス,露光量の最適露光条件を決定する条件出し作業において、顕微鏡装置で取得する寸法値,パターン判定、および画像などの条件出しデータをオンライン収集し、そのデータを取得した条件で並べて表示することを特徴とする露光条件決定支援方法。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L 21/30 502 G
, G03F 7/207 H
, H01L 21/30 526 Z
