特許
J-GLOBAL ID：200903051258837150
レーザマーキング装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
阿仁屋 節雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-016064
公開番号（公開出願番号）：特開平5-208385
出願日： 1992年01月31日
公開日（公表日）： 1993年08月20日
要約：
【要約】【目的】 この発明は、比較的簡便にコントラストの高いマーキングを行うことができるレーザマーキング装置を提供することを目的とする。【構成】 本発明にかかるレーザマーキング装置は、透光性基板60に光透過部61と光散乱部63とを形成してなるマーキングマスク6の光散乱部63が、粒径2〜20μmの多数の光散乱性粒子63bがほぼ均一に分散された領域からなるものであることを特徴としたものであり、これにより、光散乱の角度を十分に大きく確保し、コントラストの高いマーキングを簡便に行うことを可能にしたものである。
請求項（抜粋）：
レーザ装置から射出されたレーザ光を、マーキングマスクを介して被マーキング体に照射することにより、該被マーキング体にマークを形成するレーザマーキング装置において、前記マーキングマスクのマーキングパターンは、透光性基板に、前記レーザ装置から射出されたレーザ光を透過する光透過部と、前記レーザ装置から射出されたレーザ光を散乱する光散乱部とを形成してなるものであり、前記光散乱部は、多数の光散乱性粒子がほぼ均一に分散された領域からなるものであることを特徴としたレーザマーキング装置。
引用特許：
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