特許
J-GLOBAL ID：200903051277744162

自動合成装置

発明者：
井上 隆明

井上 隆明 について


出願人/特許権者：
株式会社島津製作所

株式会社島津製作所 について


代理人 (1件)： 杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-077636
公開番号（公開出願番号）：特開2001-259408
出願日： 2000年03月21日
公開日（公表日）： 2001年09月25日
要約：
【要約】【課題】 合成された生成化合物が抽出される際に有害ガスの発生を抑制することができる自動合成装置を提供する。【解決手段】 冷却部20によって、冷媒は流路19内を循環して、回収ブロック16、回収試験管17、及び生成化合物を冷却する。その結果、前記生成化合物の抽出の際に発生する有害ガスを抑制することができる。さらに、有害ガスを抑制することにより、有害ガス排気処理用の機構(ファン、ポンプ等)が不要となり、簡易な部品のみで構成することができて装置本体の価格の低減を図ることができる。
請求項（抜粋）：
合成反応を行う反応容器が複数個配列されている反応ブロックと、反応容器に試薬及び溶媒を分注する試薬・溶媒分注手段とを備え、前記反応容器内に複数種類の試薬及び溶媒を分注して合成を行うことで、前記反応容器内に生成化合物を生成する自動合成装置において、前記生成化合物を回収する回収容器が複数個配列されている回収ブロックと、前記回収ブロックを冷却する冷却手段とを備えた自動合成装置。
IPC (3件)：
B01J 19/00 321 ,  B01J 4/00 103 ,  C07B 61/00
FI (3件)：
B01J 19/00 321 ,  B01J 4/00 103 ,  C07B 61/00 C
Fターム (25件)：
4G068AA02 ,  4G068AA04 ,  4G068AA06 ,  4G068AB11 ,  4G068AB15 ,  4G068AC17 ,  4G068AD16 ,  4G075AA13 ,  4G075AA70 ,  4G075BA10 ,  4G075BD03 ,  4G075BD15 ,  4G075CA03 ,  4G075DA02 ,  4G075DA07 ,  4G075EA01 ,  4G075EA06 ,  4G075EB01 ,  4G075EC01 ,  4H006AA04 ,  4H006AD17 ,  4H006BB44 ,  4H006BB61 ,  4H006BC51 ,  4H006BD82
引用特許：
出願人引用 (3件)
  • 合成反応装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-307601   出願人：東京理化器械株式会社
  • 合成実験自動化システム
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-288708   出願人：住友化学工業株式会社, 株式会社モリテックス
  • 温度サイクル装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-255428   出願人：三洋電機株式会社
審査官引用 (3件)
  • 合成反応装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-307601   出願人：東京理化器械株式会社
  • 合成実験自動化システム
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-288708   出願人：住友化学工業株式会社, 株式会社モリテックス
  • 温度サイクル装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-255428   出願人：三洋電機株式会社

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