特許

J-GLOBAL ID：200903051277762551

多孔質膜の製造方法

発明者： 堀切 智成 ,  宮田 浩克
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 渡辺 徳廣
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-273970
公開番号（公開出願番号）：特開2003-081625
出願日： 2001年09月10日
公開日（公表日）： 2003年03月19日
要約：

【要約】【課題】 簡単な方法で、かつ環境性に良く低コストで無機酸化物の構造体膜から界面活性剤を除去し、中空の構造体膜を製造する方法を提供する。【解決手段】 基体上に界面活性剤と無機酸化物材料とを含む膜を形成する工程と、前記膜をオゾン水と接触させることで前記界面活性剤を前記膜から除去する工程とを有する多孔質膜の製造方法。前記膜を形成する工程と、前記界面活性剤を除去する工程は同一の基体上で行われ、該基体は実質的にオゾンに分解されない基体であるのが好ましい。

請求項（抜粋）：

基体上に界面活性剤と無機酸化物材料とを含む膜を形成する工程と、前記膜をオゾン水と接触させることで前記界面活性剤を前記膜から除去する工程とを有することを特徴とする多孔質膜の製造方法。

IPC (3件)：

C01B 33/12 ,  B01J 20/10 ,  B01J 20/30

FI (3件)：

C01B 33/12 ,  B01J 20/10 A ,  B01J 20/30

Fターム (39件)：

4G066AA12B ,  4G066AA22B ,  4G066AA71C ,  4G066AB01A ,  4G066AB18A ,  4G066AC12A ,  4G066BA03 ,  4G066BA05 ,  4G066BA23 ,  4G066BA31 ,  4G066BA33 ,  4G066FA03 ,  4G066FA11 ,  4G066FA21 ,  4G066FA38 ,  4G066FA40 ,  4G072AA28 ,  4G072BB09 ,  4G072BB15 ,  4G072CC13 ,  4G072FF01 ,  4G072FF07 ,  4G072GG01 ,  4G072GG03 ,  4G072HH30 ,  4G072JJ11 ,  4G072JJ30 ,  4G072KK01 ,  4G072LL06 ,  4G072LL07 ,  4G072LL14 ,  4G072MM01 ,  4G072MM31 ,  4G072MM36 ,  4G072NN21 ,  4G072PP17 ,  4G072RR05 ,  4G072UU11 ,  4G072UU15