電子ビーム描画装置および電子ビーム描画方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：京本直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-287897
公開番号（公開出願番号）：特開平7-142352
出願日： 1993年11月17日
公開日（公表日）： 1995年06月02日
要約：

【要約】【目的】簡単でかつ短時間で電子ビーム照射量の調整や位置ズレ補正、繋ぎ補正、装置の各部分の調整、安定性評価等を行う事が可能な電子ビーム描画装置および方法を提供する。【構成】第2アパーチャ16Aが半導体基板18上に左右および上下方向にそれぞれ隣接したショットパターン91A,91B,91D対応のショットアパーチャ161と、ショットパターンの外周部の上下および左右方向に所定幅の短線をピッチsで配列した線/間隔パターン21A,22Aとショットパターン91B,91Dの外周部の上下および左右方向に上記短線をそれぞれピッチsと主尺/副尺関係となるピッチpで配列した線/間隔パターン21B,22Bおよび21D,22Dとを描画して形成した評価用パターン92A,92B,92Dを描画するための評価アパーチャとを備える。

請求項（抜粋）：

電子ビームを供給する電子銃と、所望の矩形パターンを得るためのそれぞれ上下に配置された第1および第2のアパーチャと、前記第1および第2のアパーチャの中間に配置され所望の大きさの矩形パターンを形成する電子光学的な成型レンズである偏向器と、前記第2のアパーチャを透過した電子ビームを描画対象の半導体基板の表面に結像させる対物レンズとを備える電子ビーム描画装置において、前記第2のアパーチャが前記半導体基板上に予め定めた大きさの方形パターンである第1のショットパターンとこの第1のショットパターンに左右方向に隣接した第2および上下方向に隣接した第3のショットパターンをそれぞれ描画するための前記電子ビームの露出操作である第1〜第3のショット対応のショットアパーチャと、前記第1のショットパターンの外周部の上下および左右方向に所定幅の短線を第1のピッチで配列した第1の線/間隔パターンと前記第2および第3のショットパターンの外周部の上下および左右方向に前記短線をそれぞれ第1のピッチとわずかに異なる第2のピッチで配列した第2の線/間隔パターンとを描画して形成した評価用パターン対応の評価アパーチャとを備えることを特徴とする電子ビーム描画装置。

IPC (5件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 504 , G03F 7/20 521 , G21K 5/04 , H01J 37/09

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開昭63-239816
特開平1-136332
特開昭62-162340

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