特許
J-GLOBAL ID：200903051284535692
ベーパー乾燥装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
筒井 大和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-331572
公開番号（公開出願番号）：特開平6-181198
出願日： 1992年12月11日
公開日（公表日）： 1994年06月28日
要約：
【要約】【目的】 ベーパー乾燥における乾燥用溶剤の加熱状態の変化に基づく乾燥不良の発生を防止することができるようにする。【構成】 処理槽1内のIPA2をヒータ6によって加熱し、これによって生じるIPA蒸気の雰囲気中に半導体ウェハ3を配設して乾燥を行うベーパー乾燥装置であって、ノズル8を設けて半導体ウェハ3にIPA2をミスト化して吹き付け、半導体ウェハ3に対するIPA蒸気量が多くなるようにする。
請求項（抜粋）：
乾燥用溶剤を加熱し、これによって生じる蒸気の雰囲気中に被乾燥物を配設して乾燥を行うベーパー乾燥装置であって、前記被乾燥物に乾燥用溶剤をミスト化して吹き付ける手段を設けたことを特徴とするベーパー乾燥装置。
IPC (3件)：
H01L 21/304 361
, H01L 21/304
, F26B 19/00
