異物分析方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-179416
公開番号（公開出願番号）：特開平10-027833
出願日： 1996年07月09日
公開日（公表日）： 1998年01月27日
要約：

【要約】【課題】極めて能率的な異常物分析方法を提供する事を目的とする。【解決手段】異物データリスト上で分析したい異物点を全てマーキング登録し、登録異物テーブル36に登録する。分析時の照射条件を設定する。X線分析をスタートする。登録異物テーブル36からの異物の寸法データに応じた倍率で陰極線管24の画面上に登録された異物の二次電子像を表示させる。フレームメモリ22の全ての番地を調査し、該調査に基づいて異物の位置座標を測定し、陰極線管24の画面の中心位置と異物の位置座標との各方向の差分を演算して、該各差分をステージ駆動機構19及び/又はイメージシフト電源SSに送る。センタリングされた異物のセンターに集束された電子ビームが照射し、X線を発生させる。分析が1ウエハについて最後のものでなければ、続けて登録異物テーブルから次の異物点のデータが呼出され、前記と同様なステップが繰返される。

請求項（抜粋）：

検査すべきウエハ上に存在する異物の少なくとも位置と大きさデータを出力する様に成した欠陥検査装置からのデータに基づいて異物のX線分析を行う様にした異物分析方法において、前記元素分析前に、前記欠陥検査装置で検出された多数の異物の中から元素分析すべき異物をまとめて識別しておき、該各識別された異物を元素分析する様にした異物分析方法。

IPC (2件)：

H01L 21/66 , G01N 23/22

FI (3件)：

H01L 21/66 J , H01L 21/66 L , G01N 23/22

引用特許：

審査官引用 (3件)

異物観察装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-027797 出願人：株式会社日立製作所
特開昭63-179242
特開昭63-179242

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