特許

J-GLOBAL ID：200903051309922106

シリコンリボン製造装置

発明者： 矢野 光三郎 ,  五十嵐 万人 ,  布居 徹 ,  高木 健児 ,  長岡 美津也 ,  菊池 捷範
出願人/特許権者： シャープ株式会社 ,  日新技研株式会社
代理人 (1件)： 岡田 和秀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-011833
公開番号（公開出願番号）：特開2000-211996
出願日： 1999年01月20日
公開日（公表日）： 2000年08月02日
要約：

【要約】【課題】 回転冷却体及び回転軸に発生した熱膨張の影響が軸受部にまで及ぶことを緩衝し得る構成とされたシリコンリボン製造装置を提供する。【解決手段】 本発明に係るシリコンリボン製造装置は、シリコン融液Sに浸漬した回転冷却体4の外周面上に付着したシリコン融液Sを冷却し、シリコン結晶が晶出もしくは多結晶化してなるシリコンリボンを製造するものであって、回転冷却体4の側面から装置筐体6の外部にまで延出された回転軸8,9,13,14の途中部と、これらの回転軸8,9,13,14を受け止め支持する軸受部10,15とのそれぞれに、回転冷却体4及び回転軸8,9の熱膨張に伴う影響を緩衝する緩衝機構が設けられていることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

シリコン融液に浸漬した回転冷却体の外周面に付着したシリコン融液を冷却し、シリコン結晶が晶出もしくは多結晶化してなるシリコンリボンを製造するシリコンリボン製造装置であって、回転冷却体の側面から装置筐体の外部にまで延出された回転軸の途中部と、これらの回転軸を受け止め支持する軸受部とのそれぞれには、回転冷却体及び回転軸の熱膨張に伴う影響を緩衝する緩衝機構が設けられていることを特徴とするシリコンリボン製造装置。

IPC (3件)：

C30B 29/06 503 ,  H01L 21/208 ,  H01L 31/04

FI (3件)：

C30B 29/06 503 ,  H01L 21/208 Z ,  H01L 31/04 H

Fターム (16件)：

4G077AA10 ,  4G077BA04 ,  4G077CF03 ,  4G077EG20 ,  5F051AA02 ,  5F051BA14 ,  5F051CB06 ,  5F053AA06 ,  5F053BB02 ,  5F053BB12 ,  5F053DD01 ,  5F053FF10 ,  5F053GG02 ,  5F053HH07 ,  5F053LL05 ,  5F053RR06