特許

J-GLOBAL ID：200903051313414093

加熱定着装置及びその製造方法

発明者： 谷口 靖
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 若林 忠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-086404
公開番号（公開出願番号）：特開平7-295409
出願日： 1994年04月25日
公開日（公表日）： 1995年11月10日
要約：

【要約】【目的】 長期間にわたって優れた耐摩耗性摺動特性を有する加熱定着装置及びその製造方法を提供する。【構成】 定着用ヒーターにおいて、フィルムと接触摺動する前記ヒーターの絶縁保護膜上に、中間層を介して水素化アモルファス炭素膜もしくはダイヤモンド状炭素膜、ダイヤモンド膜または硬質炭素膜を、潤滑保護膜として形成したヒーターを用いた加熱定着装置及び界面における遷移層、各層にかけての組成の傾斜、炭素膜中の水素濃度などの特徴を有するヒーターを用いた加熱定着装置の製造方法。

請求項（抜粋）：

熱定着による画像形成装置で使用される熱定着用のヒーターにおいて、フィルムと接触摺動する前記ヒーターの絶縁保護膜上にSi、B、周期律表の4A族(Ti、Zr、Hf)、5A族(V、Nb、Ta)および6A族(Cr、Mo、W)の金属からなる群より選択された元素、前記元素の酸化物、炭化物、窒化物、炭窒化物、炭酸化物または炭酸窒化物、Bを除く前記元素の硼化物または硼窒化物、前記元素のうち、少なくとも複数の元素による化合物またはこれまでにあげた物質のうち複数の物質の混合物を中間層として形成した後、水素化アモルファス炭素膜もしくはダイヤモンド状炭素膜、ダイヤモンド膜、または硬質炭素膜を、潤滑保護膜として形成したヒーターを用いたことを特徴とする加熱定着装置。