特許

J-GLOBAL ID：200903051321002888

反射光学系及びこの光学系を用いたプロキシミティ露光装置

発明者： 藤江 大二郎
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 井上 義雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-233458
公開番号（公開出願番号）：特開2002-048977
出願日： 2000年08月01日
公開日（公表日）： 2002年02月15日
要約：

【要約】【課題】広い領域にわたる大きな物体に対しても、良好な結像特性を有するコンパクトな反射光学系等を提供すること。【解決手段】 第1の反射面R1と第2の反射面R2とからなり、第1及び第2の反射面R1,R2はそれぞれメリジオナル断面曲率半径R1M等とサジタル断面曲率半径R1S等とが異なり、第1の反射面R1は、物点Oからの光束のうちメリジオナル光束を集光して物点の共役点I1を形成し、かつ物点Oからの光束のうちサジタル光束を実質的にコリメートするように、物点Oから曲率半径R1Mとほぼ等しい位置に配置され、第2の反射面R2は、共役点I1からのメリジオナル光束をメリジオナル像点I2に集光し、かつ実質的にコリメートされた前記サジタル光束がサジタル像点I2に集光するように、共役点I1から曲率半径R2Sにほぼ等しい位置に配置され、メリジオナル像点I2とサジタル像点I2とがほぼ一致する。

請求項（抜粋）：

第1の反射面と第2の反射面とからなり、前記第1及び第2の反射面はそれぞれメリジオナル断面曲率半径とサジタル断面曲率半径とが異なり、前記第1の反射面は、物点からの光束のうちメリジオナル光束を集光して前記物点の共役点を形成すると同時に、前記物点からの光束のうちサジタル光束を実質的にコリメートするように、前記物点から前記第1の反射面のメリジオナル断面曲率半径とほぼ等しい位置に配置され、前記第2の反射面は、前記共役点からのメリジオナル光束をメリジオナル像点に集光し、かつ実質的にコリメートされた前記サジタル光束がサジタル像点に集光するように、前記共役点から前記第2の反射面のサジタル断面曲率半径にほぼ等しい位置に配置され、前記メリジオナル像点と前記サジタル像点とがほぼ一致することを特徴とする反射光学系。

IPC (6件)：

G02B 17/08 ,  G02B 13/08 ,  G02B 13/18 ,  G02B 13/24 ,  G03F 7/20 501 ,  H01L 21/027

FI (6件)：

G02B 17/08 A ,  G02B 13/08 ,  G02B 13/18 ,  G02B 13/24 ,  G03F 7/20 501 ,  H01L 21/30 509

Fターム (16件)：

2H087KA21 ,  2H087LA01 ,  2H087LA28 ,  2H087RA06 ,  2H087RA08 ,  2H087RA12 ,  2H087RA13 ,  2H087TA04 ,  2H087TA05 ,  2H097CA06 ,  2H097GA45 ,  5F046BA02 ,  5F046CA02 ,  5F046CB03 ,  5F046CB12 ,  5F046CB23