特許

J-GLOBAL ID：200903051323161460

ヘリカーゼの基質特異性の同定方法

発明者： 小 山 由希子 ,  曾根▲崎▼修 司 ,  草 野 好 司
出願人/特許権者： 東陶機器株式会社
代理人 (4件)： 吉武 賢次 ,  中村 行孝 ,  紺野 昭男 ,  横田 修孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-069383
公開番号（公開出願番号）：特開2005-253364
出願日： 2004年03月11日
公開日（公表日）： 2005年09月22日
要約：

【課題】 ヘリカーゼの基質特異性を同定する方法の提供。【解決手段】 5’突出末端を有する二本鎖核酸、3’突出末端を有する二本鎖核酸および突出末端を持たない二本鎖核酸のそれぞれを基質とした被験ヘリカーゼによる酵素反応を行ない、二本鎖核酸の一本鎖核酸への解離によってシグナル強度が増加または減少するシグナル発生物質を用いて被験ヘリカーゼの各基質に対する反応速度を測定し、各基質についての測定値の組み合わせを被験ヘリカーゼの基質特異性として同定する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

ヘリカーゼの基質特異性を同定する方法であって、 (a)一方の端部が平滑末端であり、かつ、他方の端部が5’突出末端である二本鎖核酸、および該二本鎖核酸の一本鎖核酸への解離によってシグナル強度が増加または減少するシグナル発生物質を含んでなる5’突出末端基質を用意する工程、 (b)一方の端部が平滑末端であり、かつ、他方の端部が3’突出末端である二本鎖核酸、および該二本鎖核酸の一本鎖核酸への解離によってシグナル強度が増加または減少するシグナル発生物質を含んでなる3’突出末端基質を用意する工程、 (c)両方の端部が平滑末端である二本鎖核酸、および該二本鎖核酸の一本鎖核酸への解離によってシグナル強度が増加または減少するシグナル発生物質を含んでなる平滑末端基質を用意する工程、 (d)5’突出末端基質、3’突出末端基質および平滑末端基質のそれぞれを基質として、被験ヘリカーゼによる酵素反応を行なう工程、ならびに (e)前記酵素反応の各反応産物からのシグナル強度を測定する工程 を含んでなり、各基質についてのシグナル強度の増加速度または減少速度の組み合わせが被験ヘリカーゼの基質特異性として同定される、方法。

IPC (3件)：

C12N15/09 ,  C12Q1/68 ,  G01N33/52

FI (3件)：

C12N15/00 A ,  C12Q1/68 Z ,  G01N33/52 Z

Fターム (29件)：

2G045AA28 ,  2G045DA12 ,  2G045DA13 ,  2G045DA14 ,  2G045FB01 ,  2G045FB07 ,  2G045FB12 ,  2G045GC15 ,  4B024AA01 ,  4B024AA11 ,  4B024AA20 ,  4B024CA01 ,  4B024CA11 ,  4B024CA20 ,  4B024HA08 ,  4B024HA11 ,  4B024HA20 ,  4B063QA01 ,  4B063QA05 ,  4B063QQ42 ,  4B063QQ52 ,  4B063QR01 ,  4B063QR32 ,  4B063QR35 ,  4B063QR38 ,  4B063QR58 ,  4B063QS36 ,  4B063QS39 ,  4B063QX02