特許
J-GLOBAL ID：200903051323400015
偏光による特性パラメーターの測定
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
八木田 茂 (外2名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-532985
公開番号（公開出願番号）：特表2001-519891
出願日： 1997年03月19日
公開日（公表日）： 2001年10月23日
要約：
【要約】固体表面とのプラズマ相互作用(エッチングまたは沈積中)は、光線の偏光の変化状態の効果を利用して観察される。基体はプラズマ処理中物理的パラメーターを変化する。観察光線は基体の表面の組成及びプラズマ処理に伴う組成変化を表わす。表面から反射した光線はエリプソメトリーにおいて普通に用いられている装置によって分析されるが新しい計算法によって変更される。光の偏光状態の周期性は表面における発生事象を実時間で観察する際の基準点として用いられる。また表面を量的及び質的に化学分析するのにも用いられる。
請求項（抜粋）：
材料に既知の偏光光線を指向させること; 材料から反射した光線を分析して偏光状態の変化を測定すること; 前記偏光状態の変化を観察して偏光状態の変化の周期性を得ることを;及び 得られた周期性から材料の一つ以上の特性パラメーターを計算することから成る、材料の処理中に材料の一つ以上の特性パラメーターをその場で測定及び(または)観察する方法。
IPC (3件)：
G01N 21/21
, G01B 11/06
, G01J 4/04
G01N 21/21 Z
, G01B 11/06 Z
, G01J 4/04 A
