特許
J-GLOBAL ID：200903051347944695
レーザプラズマ光源及びこれを用いた輻射線発生方法
発明者：
出願人/特許権者：
,
代理人 (1件)：
工業技術院電子技術総合研究所長
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-064256
公開番号（公開出願番号）：特開平11-250842
出願日： 1998年02月27日
公開日（公表日）： 1999年09月17日
要約：
【要約】【目的】 固体ターゲットを用い、デブリの少ない、変換効率の高いレーザプラズマ光源を得る。【構成】 固体ターゲット11に窪み12を設ける。窪みの内壁をアブレーション用パルスレーザ13によりアブレーションする。窪み12内の空間中にて気化物質14の高密度化部分15ができるのを待って加熱用パルスレーザ17を照射し、当該高密度化部分15を高温プラズマ18とし、輻射線19の発生を図る。
請求項（抜粋）：
レーザを固体ターゲットに照射して得られるプラズマから輻射線を発生させるレーザプラズマ光源であって;上記固体ターゲットにあって上記レーザの照射を受ける部分に設けられた窪みと;該窪みの内壁の表層部分を気化させるため、該窪みに向けてアブレーション用レーザを照射するアブレーション用レーザ源と;該気化した物質が該窪み内の特定領域にて高密度化した部分を高温プラズマ化するため、該高密度化部分に加熱用レーザを照射する加熱用レーザ源と;を有して成るレーザプラズマ光源。
IPC (4件)：
H01J 35/22
, G01N 21/01
, G01N 21/33
, H05G 2/00
H01J 35/22
, G01N 21/01 D
, G01N 21/33
, H05G 1/00 K
