特許
J-GLOBAL ID：200903051348048260
真空装置の真空排気配管
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
村上 博 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-228440
公開番号（公開出願番号）：特開平5-044034
出願日： 1991年08月12日
公開日（公表日）： 1993年02月23日
要約：
【要約】【目的】 初期組立性の向上及び装置稼働時におけるメンテナンス性の向上を図ると共に、マルチチャンバーシステムにおけるレイアウトスペースの効率化、更にはプロセス条件に対応して真空排気能力を増減できる真空装置を得る。【構成】 上下のチャンバー2、3を取付けた架台11と、上記下部チャンバーと直角配管5を介して接続された真空排気系を載せる架台12を分離独立して配置したものである。
請求項（抜粋）：
ウエハをプロセス処理するための上部、下部チャンバーを取付けた架台と、上記下部チャンバー内に内蔵されている電極を上下動せしめる下電極駆動部と、上記下部チャンバーと圧力制御バルブをつなぐ直角配管と、真空配管路を開閉するためのゲートバルブとポンプとを備えた真空装置において、上記チャンバー設置のための架台と、真空排気系を設置するための架台を分離独立させたことを特徴とする真空装置の真空排気配管。
IPC (2件)：
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