ホスホナイト配位子をベースとする第VIII副族の金属の錯体を含有する触媒及びヒドロホルミル化法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：矢野敏雄 (外4名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-535451
公開番号（公開出願番号）：特表2002-505945
出願日： 1999年03月11日
公開日（公表日）： 2002年02月26日
要約：

【要約】本発明は、一般式I:【化1】の2-又は多座のホスホナイト配位子又はその塩及び混合物少なくとも1個を有する第VIII副族の金属の錯体少なくとも1種を含有する触媒及びそのような触媒の存在下に、少なくとも1個のエチレン系不飽和二重結合を有する化合物を一酸化炭素及び水素と反応させることによって、ヒドロホルミル化する方法に関する。

請求項（抜粋）：

一般式I: 【化1】[式中、mは、0又は1であり、 Aは、それが結合しているホスホナイト基の一部と一緒になって、5〜8-員の複素環を表わし、この複素環は、場合により付加的に、シクロアルキル、アリール及び/又はヘタリールと1-、2-又は3重に縮合していてよく、ここで、縮合基は、アルキル、アルコキシ、ハロゲン原子、ニトロ、シアノ又はカルボキシルから選択される各々1個、2個又は3個の置換基を有していてよく、 R1は、C3〜C6-アルキレン橋を表わし、これは1、2又は3個の二重結合を有し、かつ/又はアリール及び/又はヘタリールと1、2又は3重に縮合していてよく、ここで、アリール-又はヘタリール基は、1、2又は3個の次の置換基:アルキル、シクロアルキル、アリール、アルコキシ、シクロアルキルオキシ、アリールオキシ、ハロゲン原子、トリフルオルメチル、ニトロ、シアノ、カルボキシル又はNE1E2を有していてよく、ここで、E1及びE2は、同じ又は異なっていてよく、アルキル、シクロアルキル又はアリールを表わし、 Dは、Aについて記載の意味を有してよい]の2-又は多座のホスホナイト配位子とニッケルを除く第VIII副族の金属との錯体又はその塩及び混合物を含有する触媒。

IPC (6件)：

B01J 31/22 , C07C 45/50 , C07C253/30 , C07C255/17 , C07F 9/6571 , C07B 61/00 300

FI (6件)：

B01J 31/22 Z , C07C 45/50 , C07C253/30 , C07C255/17 , C07F 9/6571 , C07B 61/00 300

Fターム (30件)：

4G069AA06 , 4G069BA27A , 4G069BA27B , 4G069BC66A , 4G069BC67A , 4G069BC69A , 4G069BC70A , 4G069BC71A , 4G069BC71B , 4G069BE29A , 4G069BE29B , 4G069BE37A , 4G069BE37B , 4G069BE38A , 4G069BE38B , 4G069CB51 , 4G069CB52 , 4H006AA02 , 4H006AC45 , 4H006BA20 , 4H006BA23 , 4H006BA24 , 4H006BA48 , 4H006BE20 , 4H006BE40 , 4H006QN30 , 4H039CA62 , 4H039CL45 , 4H050AA03 , 4H050AB40

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