特許
J-GLOBAL ID:200903051388307004

レーザマイクロジェット加工装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 富澤 孝 ,  山中 郁生 ,  岡戸 昭佳 ,  奥田 誠
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-289350
公開番号(公開出願番号):特開2004-122173
出願日: 2002年10月02日
公開日(公表日): 2004年04月22日
要約:
【課題】液体ビームへの液滴の混入を防止したレーザマイクロジェット加工装置を提供すること。【解決手段】ビーム源からのレーザ光をノズルに収束させ、そのノズルから噴射される液体ビーム内を通して被加工表面にレーザ光を到達させるものであって、ノズル24を備えたノズルブロック10は、液体ビームが噴射される噴射口27aの形成された底面が、当該噴射口27aから周辺部に向かって下向き傾斜した傾斜面27bの形成されたレーザマイクロジェット加工装置。【選択図】 図2
請求項(抜粋):
ビーム源からのレーザ光をノズルに収束させ、そのノズルから噴射される液体ビーム内を通して被加工表面にレーザ光を到達させるレーザマイクロジェット加工装置において、 前記ノズルを備えたノズルブロックは、液体ビームが噴射される噴射口の形成された底面が、当該噴射口から周辺部に向かって下向き傾斜した傾斜面の形成されたものであることを特徴とするレーザマイクロジェット加工装置。
IPC (3件):
B23K26/12 ,  B23K26/00 ,  B23K26/08
FI (3件):
B23K26/12 ,  B23K26/00 A ,  B23K26/08 N
Fターム (4件):
4E068CA05 ,  4E068CH02 ,  4E068CH08 ,  4E068CJ07

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