特許

J-GLOBAL ID：200903051389871396

有機ケイ素高分子およびその製造方法

発明者： 三塚 雅彦 ,  伊藤 正義 ,  内海 哲良 ,  岩田 健二 ,  小林 峰生
出願人/特許権者： 三井東圧化学株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-043596
公開番号（公開出願番号）：特開平5-345825
出願日： 1993年03月04日
公開日（公表日）： 1993年12月27日
要約：

【要約】【目的】 新規な触媒による有機ケイ素高分子およびその製造方法を提供する。【構成】 塩基性金属酸化物の存在下で、フェニルシラン(C6H5SiH3)とm-ジエチニルベンゼン(HC≡C-C6H4-C≡CH)とを反応させることにより製造した構造式(1)(上式中、xおよびyは繰り返し単位の組成比を示し0.5>y>0.001、x+y=1なる関係を満たす。)で表される有機ケイ素高分子およびその製造方法。

請求項（抜粋）：

塩基性金属酸化物の存在下で、フェニルシラン(C6H5SiH3)とm-ジエチニルベンゼン(HC≡C-C6H4-C≡CH)とを反応させることを特徴とする有機ケイ素高分子の製造方法。

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開平3-216138