特許

J-GLOBAL ID：200903051403735433

ガラス基板のレーザテクスチャ処理方法

発明者： 加藤 賢治 ,  阿部 真博 ,  石川 博
出願人/特許権者： 日本碍子株式会社
代理人 (1件)： 渡邉 一平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-235628
公開番号（公開出願番号）：特開平11-079791
出願日： 1997年09月01日
公開日（公表日）： 1999年03月23日
要約：

【要約】【課題】 磁気ハードディスク基板に形成するテクスチャの高さばらつきを低減して基板と磁気ヘッドとの接触面積を一定とし、摩擦係数を安定させてCSS特性を向上させるガラス基板のレーザテクスチャ処理方法を提供する。【解決手段】 吸光係数を400cm-1以上としたガラス基板をYAGレーザの第2次高調波を用いてテクスチャ処理を行うか、もしくは、レーザ光の集光角度が1.5 ゚以上となる対物レンズを用い、かつ、吸光係数を400cm-1以上としたガラス基板を用いることによりテクスチャ処理を行う。

請求項（抜粋）：

吸光係数を400cm-1以上としたガラス基板を、YAGレーザの第2次高調波を用いてテクスチャ処理することを特徴とするガラス基板のレーザテクスチャ処理方法。

IPC (4件)：

C03C 23/00 ,  G11B 5/62 ,  G11B 5/84 ,  B23K 26/00

FI (4件)：

C03C 23/00 D ,  G11B 5/62 ,  G11B 5/84 A ,  B23K 26/00 G