特許
J-GLOBAL ID：200903051411274682
光学積層体の製造方法、及び画像表示装置
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
大中 実
, 大内 信雄
, 鈴木 活人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-046351
公開番号（公開出願番号）：特開2008-209666
出願日： 2007年02月27日
公開日（公表日）： 2008年09月11日
要約：
【課題】 本発明の課題は、リオトロピック液晶性化合物を含む塗膜を含む光学積層体に於いて、該塗膜の厚みを略均一に作製できる光学積層体の製造方法を提供することである。【解決手段】 基材と塗膜とを有する光学積層体の製造方法であって、基材上に、1種以上のリオトロピック液晶性化合物を含む溶液を塗布し、塗膜を形成する工程を有し、溶液のリオトロピック液晶性化合物の濃度が、等方相-液晶相転移濃度よりも低いものを用いる。この溶液のリオトロピック液晶性化合物の濃度としては、(CIN-18)質量%〜(CIN-1)質量%である。ただし、CINは、等方相-液晶相転移濃度を表す。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
基材と塗膜とを有する光学積層体の製造方法であって、
基材上に、1種以上のリオトロピック液晶性化合物を含む溶液を塗布し、塗膜を形成する工程を有し、
前記溶液のリオトロピック液晶性化合物の濃度が、等方相-液晶相転移濃度よりも低いことを特徴とする光学積層体の製造方法。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G02B5/30
, G02F1/1335 510
, G02F1/13363
2H049BA02
, 2H049BA06
, 2H049BA42
, 2H049BB42
, 2H049BC02
, 2H049BC04
, 2H049BC05
, 2H049BC09
, 2H049BC22
, 2H091FA07X
, 2H091FA07Y
, 2H091FA07Z
, 2H091FA11X
, 2H091FA11Y
, 2H091FA11Z
, 2H091FB02
, 2H091FB12
出願人引用 (2件)
-
偏光板
公報種別：公開公報
出願番号：特願2001-077656
出願人：日東電工株式会社
-
光学異方性材料
公報種別：公開公報
出願番号：特願2001-041950
出願人：積水化学工業株式会社
審査官引用 (6件)
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