特許
J-GLOBAL ID：200903051411310395
熱処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
油井 透 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-252466
公開番号（公開出願番号）：特開2000-091257
出願日： 1998年09月07日
公開日（公表日）： 2000年03月31日
要約：
【要約】【課題】 基板加熱用の光源の光を効率よく且つ均一に基板に照射できる熱処理装置を提供する。【解決手段】 反応ガス等の雰囲気の容器1内にウェーハ2を設ける。容器1の上方には、ウェーハ2の周辺部に位置させて、ウェーハ加熱用のランプ4を配置する。ランプ4と容器1との間には、複数の石英ガラス製の導光棒6が垂直に支持された導光ユニット5を設ける。ランプ4から発した光は、導光ユニット5の導光棒6の上端面に斜めに入射し、導光棒6の外周面で全反射を繰り返して伝搬し、導光棒6の下端面から拡散光となって出射し、ウェーハ2面に照射する。ランプ4からの光を複数の導光棒6で拡散してウェーハ2に照射しているので、ランプ4の光を効率よく且つウェーハ2面に一様に照射できる。
請求項（抜粋）：
基板の少なくとも一方の面側に設けられた基板加熱用の光源と、該光源からの光を導いて前記基板に対し拡散された光を照射する複数の導光体とを備えたことを特徴とする熱処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/26
, H01L 21/22 511
H01L 21/26 J
, H01L 21/22 511 A
