特許

J-GLOBAL ID：200903051439541813

非親和性の障壁によるメニスカスの分離および閉じ込め

発明者： ロバート・ジェイ.・オドネル ,  トーマス・ダブリュ.・アンダーソン
出願人/特許権者： ラム リサーチ コーポレーション
代理人 (1件)： 特許業務法人明成国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-189340
公開番号（公開出願番号）：特開2006-041504
出願日： 2005年06月29日
公開日（公表日）： 2006年02月09日
要約：

【課題】 疎水性の障壁によるメニスカスの分離および閉じ込め。【解決手段】 多くの実施形態の1つにおいて、基板を処理するための方法が提供される。該方法は、第1の流体メニスカスと第2の流体メニスカスとを基板の表面上に生成する工程を有する。このとき、第1の流体メニスカスは、第2の流体メニスカスにほぼ隣接する。このメニスカスは、また、第1の流体メニスカスと第2の流体メニスカスとを障壁によって分離する工程も有する。【選択図】 図3

請求項（抜粋）：

基板を処理するための方法であって、 第1の流体メニスカスと、前記第1の流体メニスカスにほぼ隣接する第2の流体メニスカスとを前記基板表面上に生成し、 前記第1の流体メニスカスと前記第2の流体メニスカスとを障壁によってほぼ分離することと を備える方法。

IPC (3件)：

H01L 21/304 ,  H01L 21/306 ,  C23F 1/24

FI (4件)：

H01L21/304 643C ,  H01L21/306 J ,  C23F1/24 ,  H01L21/304 651H

Fターム (11件)：

4K057WA01 ,  4K057WA10 ,  4K057WB06 ,  4K057WE07 ,  4K057WE22 ,  4K057WM03 ,  4K057WM11 ,  4K057WM20 ,  4K057WN01 ,  5F043BB00 ,  5F043EE40

引用特許：

審査官引用 (2件)

• ウェット処理装置及びウェット処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-291144   出願人：アルプス電気株式会社
• ウェット処理用ノズル及びノズル装置並びにウェット処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-229497   出願人：株式会社フロンテック, 株式会社カイジョー