特許
J-GLOBAL ID：200903051445306230
液晶表示装置の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
松隈 秀盛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-186684
公開番号（公開出願番号）：特開平5-034708
出願日： 1991年07月25日
公開日（公表日）： 1993年02月12日
要約：
【要約】【目的】 アクティブマトリクス液晶表示装置における信号線等の微細パターン配線層を確実に形成する。【構成】 液晶表示装置の液晶画素における薄膜トランジスタに接続される配線層の形成に当り、第1の導電層をパターン化してなる第1の配線層M1 を形成して後、これの上に第2の導電層を被着形成してこれをパターン化して第2の配線層M2 を形成し、第1及び第2の配線層の積層構造の配線層を形成する。
請求項（抜粋）：
液晶表示装置の液晶画素における薄膜トランジスタに接続される配線層の形成に当り、第1の導電層を全面的に形成する工程と、上記第1の導電層上に所定のパターンのエッチングレジストを形成する工程と、このパターン化されたエッチングレジストをマスクとして上記第1の導電層をウエットエッチングして第1の配線層を形成する工程と、該第1の配線層上に第2の導電層を全面的に形成する工程と、該第1の導電層上に所定のパターンのエッチングレジストを形成する工程と、該パターン化されたエッチングレジストをマスクとして上記第2の導電層をウエットエッチングして第2の配線層を形成する工程とを採って、上記第1及び第2の配線層の積層構造による配線層を形成することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
IPC (5件)：
G02F 1/1343
, G02F 1/136 500
, H01L 21/3205
, H01L 27/12
, H01L 29/784
H01L 21/88 B
, H01L 29/78 311 A
