特許

J-GLOBAL ID：200903051445539065

階調記録装置

発明者： 中上 広樹
出願人/特許権者： 日本ビクター株式会社
代理人 (1件)： 二瓶 正敬
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-398836
公開番号（公開出願番号）：特開2003-198849
出願日： 2001年12月28日
公開日（公表日）： 2003年07月11日
要約：

【要約】【課題】 短い処理時間、簡単な構成で輪郭強調とスムージング処理を行う。【解決手段】 左隣接画素sとの相関性が高い着目画素pに対しては、0から7まで1つずつ順次増加する第1の基準信号cfを用い、右隣接画素tとの相関性が高い着目画素pに対しては、7から0まで1つずつ順次減少する第2の基準信号crを用い、左隣接画素s及び右隣接画素tとの相関性の偏りが小さい着目画素(すなわち、左隣接画素s及び右隣接画素tとの相関性の偏りが所定値k1以下である着目画素)、又は、小さい着目画素p(すなわち、所定値k2以下の着目画素)に対しては、前半部では減少し後半部では増加する第3の基準信号cmを用いて比較することにより、左隣接画素s及び右隣接画素tとの相関性の偏りがある着目画素pを相関性の高い左隣接画素s又は右隣接画素tに近づけて記録する。

請求項（抜粋）：

画像を構成する複数の画素の各画素の大きさと濃度との少なくとも一方を制御して複数段階の階調を表現して記録する階調記録装置において、前記画像中の着目画素と、前記着目画素の隣接画素であって前記着目画素を中心として対称な位置にある2つの隣接画素のそれぞれとの相関性を算出する手段と、前記着目画素の大きさ又は濃度を所定値と比較して、前記着目画素の大きさ又は濃度が前記所定値より大きいか否かを判断する比較手段と、前記画素が配置される位置を制御する制御手段とを有し、前記着目画素の大きさ又は濃度が前記所定値より大きい場合には、前記制御手段が、前記相関性の差に基づいて相関性の高い隣接画素との距離が相関性の低い隣接画素との距離より短くなる位置に前記着目画素が配置されるように制御することを特徴とする階調記録装置。

IPC (2件)：

H04N 1/409 ,  G06T 5/00 100

FI (2件)：

G06T 5/00 100 ,  H04N 1/40 101 D

Fターム (22件)：

5B057AA11 ,  5B057CA02 ,  5B057CA08 ,  5B057CA12 ,  5B057CA16 ,  5B057CB02 ,  5B057CB08 ,  5B057CB12 ,  5B057CB16 ,  5B057CC01 ,  5B057CE03 ,  5B057CE05 ,  5B057CE11 ,  5B057CH08 ,  5C077LL05 ,  5C077MP01 ,  5C077PP02 ,  5C077PP03 ,  5C077PP68 ,  5C077PQ12 ,  5C077PQ20 ,  5C077TT02