特許

J-GLOBAL ID：200903051451333932

疎水性連続気泡ポリイソシアヌレートフォームの製造方法

発明者： 佐野 洋子
出願人/特許権者： 佐野 洋子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-099206
公開番号（公開出願番号）：特開2000-248032
出願日： 1999年03月02日
公開日（公表日）： 2000年09月12日
要約：

【要約】【目的】 本発明は100%に達する疎水性連続気泡ポリイソシアヌレートフォームを提供することである。【構成】 ?@シリコン系整泡剤としてイソシアネートと反応する基を有するポリシロキサン-ポリオキシアルキレン共重合体?A特殊添加剤であるイソシアネートと反応する基を有さないポリオキシアルキレン誘導体を用いて疎水性連続気泡ポリイソシアヌレートフォームを製造することである。

請求項（抜粋）：

ポリイソシアネート化合物、ヒドロキシ化合物、水及び/又は他の発泡剤、触媒、シリコン系整泡剤、特殊添加剤等によりポリイソシアヌレートフォームを製造するに当たり、1)ポリイソシアネートが芳香族系ポリイソシアネート化合物、そして2)触媒が少なくともイソシアヌレート系触媒を使用し、そして3)シリコン系整泡剤がイソシアネートと反応する基を有するポリシロキサン-ポリオキシアルキレン共重合体であり、そして4)特殊添加剤がイソシアネートと反応する基を有さないポリオキシアルキレン誘導体、そして5)ヒドロキシ化合物100重量部当たり該特殊添加剤を10重量部以上使用する疎水性連続気泡ポリイソシアヌレートフォームの製造方法。

IPC (4件)：

C08G 18/09 ,  C08G 18/16 ,  C08G 18/08 ,  C08G101:00

FI (2件)：

C08G 18/08 A ,  C08G 18/16

Fターム (57件)：

4J034CA01 ,  4J034CA02 ,  4J034CA03 ,  4J034CA04 ,  4J034CA05 ,  4J034CA11 ,  4J034CA21 ,  4J034CB01 ,  4J034CB02 ,  4J034CE01 ,  4J034DA01 ,  4J034DB03 ,  4J034DF01 ,  4J034DF12 ,  4J034DF14 ,  4J034DF15 ,  4J034DF16 ,  4J034DF20 ,  4J034DF21 ,  4J034DF22 ,  4J034DG01 ,  4J034DG02 ,  4J034DG03 ,  4J034DG14 ,  4J034FB01 ,  4J034HA01 ,  4J034HA06 ,  4J034HB06 ,  4J034HB07 ,  4J034HB08 ,  4J034HC11 ,  4J034HC12 ,  4J034HC13 ,  4J034HC63 ,  4J034HC64 ,  4J034HC67 ,  4J034HC71 ,  4J034KA01 ,  4J034KB03 ,  4J034KC02 ,  4J034KD02 ,  4J034KD11 ,  4J034KD12 ,  4J034KD21 ,  4J034LA08 ,  4J034MA12 ,  4J034MA17 ,  4J034MA24 ,  4J034NA03 ,  4J034NA05 ,  4J034NA08 ,  4J034QA01 ,  4J034QA05 ,  4J034QB12 ,  4J034QC01 ,  4J034RA11 ,  4J034RA12