特許

J-GLOBAL ID：200903051456316971

静電荷像現像用トナ-

発明者： 小川 学 ,  吉田 英一 ,  丸山 正俊 ,  芹沢 洋
出願人/特許権者： 日本カーバイド工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-105261
公開番号（公開出願番号）：特開平5-281780
出願日： 1992年04月01日
公開日（公表日）： 1993年10月29日
要約：

【要約】【目的】 本発明は良好な定着性、優れた非オフセット性、耐ブロッキング耐久性を有する静電荷像を現像するためのトナ-を得るものである。【構成】 結合樹脂と着色剤とを主成分とする静電荷像現像用トナ-において、該結合樹脂が(a) GPC分子量ピ-ク(Lp)が4×103〜5×104未満で且つその重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn)が4.0未満であるスチレン系単独重合体である低分子量重合体と(b) GPC分子量ピ-ク(Mp)が3×104〜5×105であるスチレン系共重合体である中分子量重合体と(C) 架橋されたスチレン系共重合体である高分子量重合体とを特定量含有する静電荷像現像用トナ-である。

請求項（抜粋）：

結合樹脂と着色剤とを主成分とする静電荷像現像用トナ-において、該結合樹脂が(a) GPC分子量ピ-クLpが1.5×10<SP>3</SP>〜4×10<SP>3</SP>未満で且つその重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn)が、4.0未満であるスチレン系単独重合体である、低分子量重合体と(b) GPC分子量ピ-ク(Mp)が3×10<SP>4</SP>〜5×10<SP>5</SP>であるスチレン系共重合体である中分子量重合体と(c) 架橋されたスチレン系共重合体である高分子量重合体とを含有し該低分子量重合体(a)と該高分子量重合体(c)の合計当り、該低分子量重合体(a)が50〜80重量部及び該高分子量重合体(c)が50〜20重量部であり(但し、低分子量重合体(a)と高分子量重合体(c)の合計は100重量部である)Lp<Mpであり、且つ、該高分子量重合体(c)100重量部に対して該中分子量重合体(b)が5〜60重量部であることを特徴とする静電荷像現像用トナ-。

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭58-086558
  
• 特開昭60-007434
  
• 特開昭63-223014