特許
J-GLOBAL ID:200903051463910560

ウェハ支持部材

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-293034
公開番号(公開出願番号):特開2003-100856
出願日: 2001年09月26日
公開日(公表日): 2003年04月04日
要約:
【要約】【課題】ウェハの昇温時間及び冷却時間を効果的に短縮することが可能なウェハ支持部材を提供する。【解決手段】ウェハ支持部材1を、板状セラミック体2の載置面4と反対側の表面近傍に静電吸着用電極5を埋設したウェハステージ2と、導電性プレート8と、リフト機構12とから構成し、上記板状セラミック体2の下面にはガス溝7を形成するとともに、上記導電性プレート8には上記ガス溝7と連通するガス導入孔10を設け、載置面4に載せたウェハWを加熱する時には、リフト機構12によってウェハステージ2を導電性プレート8より切り離し、載置面4に載せたウェハWを冷却する時には、リフト機構12によってウェハステージ2を導電性プレート8に当接させるとともに、静電吸着用電極5に通電して静電吸着力を発現させ、ウェハステージ2を導電性プレート8に吸着固定させ、かつガス導入孔10よりガス溝7に不活性ガスを供給する。
請求項(抜粋):
板状セラミック体の上面をウェハを載せる載置面とし、上記板状セラミック体中の下面側近傍に静電吸着用電極を埋設したウェハステージと、上記板状セラミック体の下面側に配置される導電性プレートと、上記ウェハステージを導電性プレートより切り離すリフト機構とを有し、上記板状セラミック体の下面及び/又は上記導電性プレートの上面にはガス溝を備えるとともに、上記導電性プレートには上記ガス溝と連通するガス導入孔を備え、上記ウェハステージの載置面に載せたウェハを加熱する時には、上記リフト機構によってウェハステージを導電性プレートより切り離し、かつ上記ウェハステージの載置面に載せたウェハを冷却する時には、上記リフト機構によってウェハステージを導電性プレートに当接させた状態で上記静電吸着用電極に通電して導電性プレートとの間に静電吸着力を発現させ、上記ウェハステージと上記導電性プレートとを強制的に吸着固定させるとともに、上記ガス導入孔よりガス溝に不活性ガスを供給するようにしたことを特徴とするウェハ支持部材。
IPC (2件):
H01L 21/68 ,  C23C 16/458
FI (2件):
H01L 21/68 R ,  C23C 16/458
Fターム (19件):
4K030CA04 ,  4K030CA06 ,  4K030CA12 ,  4K030GA02 ,  4K030JA03 ,  4K030KA23 ,  4K030KA46 ,  5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031HA02 ,  5F031HA19 ,  5F031HA33 ,  5F031HA37 ,  5F031HA38 ,  5F031HA40 ,  5F031MA26 ,  5F031MA28 ,  5F031MA32 ,  5F031NA04

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