特許

J-GLOBAL ID：200903051464197450

皮膚外用剤

発明者： 田村 辰仙 ,  長谷部 恵子 ,  松本 千賀子
出願人/特許権者： 花王株式会社
代理人 (1件)： 有賀 三幸 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-107510
公開番号（公開出願番号）：特開平11-302198
出願日： 1998年04月17日
公開日（公表日）： 1999年11月02日
要約：

【要約】【解決手段】 次の成分(A)及び(B):(A)ベンダザック、インドメタシン、ブフェキサマック、ウフェナマート等から選ばれる1種又は2種以上、(B)次の一般式(1)で表されるアミド誘導体【化1】(式中、R1 及びR2 はOH基で置換されていてもよいC9〜39の炭化水素基を示し、R3 及びR4 は水素原子、リン酸塩残基等を示す)を含有する皮膚外用剤。【効果】 薬効の持続性と保湿効果に優れ、低刺激で肌荒れ改善効果が高く、使用感が良好である。

請求項（抜粋）：

次の成分(A)及び(B):(A)ベンダザック、インドメタシン、ブフェキサマック、ウフェナマート、イブプロフェンピコノール、スプロフェン、フルフェナム酸ブチル、ビタミンA油、ジフェンヒドラミン、塩酸ジフェンヒドラミン、マレイン酸クロルフェニラミン、塩酸イソチペンジル、ジフェニルイミダゾール、硫酸クレミゾール、クロタミトン、グリチルレチン酸、グリチルリチン酸二カリウム、サリチル酸メチル、サリチル酸グリコール、アラントイン、グアイアズレン、ジクロフェナクナトリウム、イブプロフェン、ザルトプロフェン、ナプロキセン、フルルビプロフェン、フェンブフェン、メフェナム酸、ピロキシカム、アンピロキシカム、リシプフェン、テノキシカム、フェルビナク及びオルセノンから選ばれる1種又は2種以上、(B)次の一般式(1)で表されるアミド誘導体【化1】(式中、R1 及びR2 は同一又は異なって、1又は2以上のヒドロキシル基で置換されていてもよい炭素数9〜39の直鎖又は分岐鎖の飽和又は不飽和の炭化水素基を示し、R3 及びR4 は同一又は異なって、水素原子、リン酸塩残基、硫酸塩残基又は糖残基を示す)を含有することを特徴とする皮膚外用剤。

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 化粧料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-035063   出願人：花王株式会社