特許
J-GLOBAL ID：200903051465343493
写真用処理組成物及び処理方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-315124
公開番号（公開出願番号）：特開平6-161054
出願日： 1992年11月25日
公開日（公表日）： 1994年06月07日
要約：
【要約】【目的】写真性を阻害することなく、金属イオンを有効に隠蔽する写真用処理液を提供する。【構成】下記式で表される化合物若しくはその塩を含有することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料用の処理組成物。(式中、G1 、G2 はカルボキシル基、ホスホノ基、スルホ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、アリール基、複素環基、アルキルチオ基、アミジノ基、グアニジノ基又はカルバモイル基を、L1 、L2 及びL3 は二価の脂肪族基、二価の芳香族基又はそれらの組合せからなる二価の連結基を、m、nは0又は1を、Xは水素原子、脂肪族基又は芳香族基を、Mは水素原子又はカチオンをそれぞれ表わす。)【化1】
請求項（抜粋）：
下記一般式(I)で表される化合物若しくはその塩の少なくとも一種を含有することを特徴とする写真用処理組成物。一般式(I)【化1】(式中、G1 及びG2 はそれぞれ、カルボキシル基、ホスホノ基、スルホ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、アリール基、複素環基、アルキルチオ基、アミジノ基、グアニジノ基又はカルバモイル基を表わす。L1 、L2 及びL3 はそれぞれ二価の脂肪族基、二価の芳香族基又はそれらの組合せからなる二価の連結基を表わす。m及びnはそれぞれ0又は1を表わす。Xは水素原子、脂肪族基又は芳香族基を表わす。Mは水素原子又はカチオンを表わす。)
IPC (2件)：
引用特許：
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