特許
J-GLOBAL ID:200903051466718369

アルミニウム合金パネル材のヘム加工方法およびアルミニウム合金パネル材

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 梶 良之 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-224631
公開番号(公開出願番号):特開2003-039124
出願日: 2001年07月25日
公開日(公表日): 2003年02月12日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】 ヘム加工性と低温での人工時効硬化能とを同時に満足する、Al合金パネル材のヘム加工方法およびヘム加工用Al合金パネル材を提供する。【解決手段】 板厚が0.8mm 以上であるアルミニウム合金アウタパネル材1を、板厚が1.0mm 以下のアルミニウム合金インナパネル材2に接合するフラットヘム加工方法C図であって、アウタパネル材1の縁曲げ部16に挿入されるインナパネル材2端部と縁曲げ部の内面との間に隙間がある状態でフラットヘム加工するに際し、アウタパネル材1を、Si:0.4〜1.3%、Mg:0.4〜1.2%を含み、かつSi/Mgが1 以上であり、Mn:0.15%以下、Cu:0.1% 以下に規制し、耐力を110 〜140MPaの範囲としたSi過剰型のAl-Mg-Si系アルミニウム合金とし、かつフラットヘム加工後のアウタパネル材の2%ストレッチ付与後150 °C×20分の人工時効処理後の耐力を170MPa以上としたことである。
請求項(抜粋):
板厚が0.8mm 以上であるアルミニウム合金アウタパネル材を、板厚が1.0mm 以下のアルミニウム合金インナパネル材に接合するフラットヘム加工方法であって、前記アウタパネル材の縁曲げ部に挿入される前記インナパネル材端部と前記縁曲げ部の内面との間に隙間がある状態でフラットヘム加工するに際し、前記アウタパネル材を、Si:0.4〜1.3%、Mg:0.4〜1.2%を含み、かつSi/Mg が1 以上であり、Mn:0.15%以下、Cu:0.1% 以下に規制し、耐力を110 〜140MPaの範囲としたSi過剰型のAl-Mg-Si系アルミニウム合金とし、かつ前記フラットヘム加工後のアウタパネル材の2%ストレッチ付与後150 °C×20分の人工時効処理後の耐力を170MPa以上とすることを特徴とするアルミニウム合金パネル材のヘム加工方法。
IPC (11件):
B21D 39/02 ZAB ,  B21D 19/08 ,  C22C 21/02 ,  C22C 21/06 ,  C22F 1/05 ,  C22F 1/00 602 ,  C22F 1/00 623 ,  C22F 1/00 630 ,  C22F 1/00 ,  C22F 1/00 691 ,  C22F 1/00 694
FI (13件):
B21D 39/02 ZAB E ,  B21D 19/08 C ,  B21D 19/08 F ,  C22C 21/02 ,  C22C 21/06 ,  C22F 1/05 ,  C22F 1/00 602 ,  C22F 1/00 623 ,  C22F 1/00 630 A ,  C22F 1/00 630 K ,  C22F 1/00 691 B ,  C22F 1/00 691 C ,  C22F 1/00 694 A
引用特許:
審査官引用 (5件)
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