特許

J-GLOBAL ID：200903051474541427

下水処理水の高度処理方法

発明者： 嘉森 裕史 ,  藤井 正博 ,  三木 理
出願人/特許権者： 新日本製鐵株式会社
代理人 (1件)： 秋沢 政光 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-187335
公開番号（公開出願番号）：特開平6-000496
出願日： 1992年06月23日
公開日（公表日）： 1994年01月11日
要約：

【要約】【目的】 下水処理水に含まれる窒素・燐を生物学的に同時に高効率的に処理する。【構成】 硝化菌をサドル型セラミックス微生物固定化担体に固定化する。固定化担体を充填したリアクター1の処理水の酸化還元電位が+100mV(Ag/AgCl電極基準)以上になるようにリアクター1内における曝気量を制御する。塩化第二鉄水溶液を処理水に添加して不溶性燐酸化合物を析出させ、後段のサドル型セラミックス、砂、またはアンスラサイトを充填した濾過装置2によって濾過する。【効果】 下水処理水のアンモニア形態窒素をほぼ完全に除去し、全燐を0.1mg/l以下に処理できる。

請求項（抜粋）：

下水を再利用するため下水処理水に含まれる窒素・燐を生物学的に高度処理する場合、増殖が遅く、処理を行うリアクターからウォッシュアウトしやすい硝化菌をサドル型セラミックス微生物固定化担体に固定化し、更に硝化菌を固定化した固定化担体を充填したリアクターによって下水処理水を処理した処理水の酸化還元電位が+100mV(Ag/AgCl電極基準)以上になるようにリアクター内における曝気量を制御し、処理水に残存する燐を除去するため塩化第二鉄水溶液を処理水に添加して不溶性燐酸化合物を析出させ、後段のサドル型セラミックス、砂、またはアンスラサイトを充填した濾過装置によって濾過することを特徴とする下水処理水の高度処理方法。

IPC (2件)：

C02F 3/34 101 ,  C02F 3/10

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭63-236596
  
• 特開平2-214596
  
• 特開平2-172596