特許
J-GLOBAL ID:200903051478274679

廃棄ガス中に含まれる希薄なガス状炭化水素の処理方法及び該方法を実施するための装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 宮越 典明
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-317704
公開番号(公開出願番号):特開2002-035542
出願日: 2000年10月18日
公開日(公表日): 2002年02月05日
要約:
【要約】【課題】 希薄なガス状炭化水素を含む大量の廃棄ガスを、安全に、しかも容易に、かつ効率よく該ガス状炭化水素を分離すると共に、処理後に、大気中に放出する廃棄ガス中の残存ガス状炭化水素濃度を100ppm以下、期待値としてゼロエミッションにし得る上記廃棄ガスの処理方法および該方法を実施するための装置を提供すること。【解決手段】 (1)吸着塔1a,1bを使用し、(2)該吸着塔に、酸化触媒を担持した疎水性シリカゲルと、その上部にY型ゼオライトを充填し、(3)吸着・脱着を交互に行わしめ、その際の切り換え時間は、制御盤内から電気信号として取り出したデ-タロガによる“吸着剤層の破過予想濃度”の指示に従って、自動的に弁(ロ)を操作し、(4)脱着時は、パージ効果をもつ予熱された空気を燃焼用媒体ガスとして用い、吸着剤層中に保持されているガス状炭化水素を触媒燃焼せしめて無害なガスとして大気中に放散する。
請求項(抜粋):
吸着と脱着を交互に行う“吸着剤層を有する吸着装置”を用い、一方の吸着装置にガス状炭化水素を含む廃棄ガスを通過せしめ、該吸着装置内の吸着剤層にガス状炭化水素を吸着させ、実質的にガス状炭化水素を含まない廃棄ガスを大気中に放出し、その間に、他方の吸着装置を脱着に切り換えることから成る廃棄ガス中に含まれる希薄なガス状炭化水素の処理方法において、前記切り替え時に、該吸着装置内の吸着剤層に吸着したガス状炭化水素を、系外に取り出すことなく、該吸着剤に担持した酸化触媒乃至は酸化チタンの存在下に、或いは、酸化触媒と不燃性固体吸着剤の共存下に、酸素含有ガス又は光源を用いて燃焼乃至は酸化分解することを特徴とする廃棄ガス中に含まれる希薄なガス状炭化水素の処理方法。
IPC (6件):
B01D 53/44 ,  B01D 53/81 ,  B01D 53/74 ,  B01D 53/70 ,  B01D 53/86 ,  B01D 53/86 ZAB
FI (5件):
B01D 53/34 117 B ,  B01D 53/34 117 G ,  B01D 53/34 134 E ,  B01D 53/36 G ,  B01D 53/36 ZAB J
Fターム (33件):
4D002AA21 ,  4D002AA22 ,  4D002AA33 ,  4D002AA40 ,  4D002AB03 ,  4D002BA04 ,  4D002BA05 ,  4D002BA12 ,  4D002CA07 ,  4D002DA11 ,  4D002DA45 ,  4D002DA46 ,  4D002EA08 ,  4D002GA01 ,  4D002GA02 ,  4D002GA03 ,  4D002GB01 ,  4D002GB02 ,  4D002GB03 ,  4D002GB08 ,  4D002HA01 ,  4D048AA11 ,  4D048AA17 ,  4D048AB01 ,  4D048BA07X ,  4D048BA11X ,  4D048BA23Y ,  4D048BA30Y ,  4D048BA31X ,  4D048BB01 ,  4D048DA01 ,  4D048DA02 ,  4D048EA01
引用特許:
審査官引用 (6件)
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