特許
J-GLOBAL ID：200903051506361086
エキシマレーザー用石英ガラス部材の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
武田 正彦 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-182858
公開番号（公開出願番号）：特開平5-186234
出願日： 1991年06月29日
公開日（公表日）： 1993年07月27日
要約：
【要約】[目的] 石英ガラスにおけるエキシマレーザー照射時に生成する常磁性欠陥の量を減少させることができる。[構成] 揮発性けい素化合物を用い、直接火炎加水分解法により、シリカガラスの多孔質母材を製造し、この母材を1×10-2トール以上の高真空度で加熱し、透明石英ガラスを製造し、この石英ガラスを均質化し、成形し、アニールして、エキシマレーザー用石英ガラス部材を製造する。
請求項（抜粋）：
揮発性けい素化合物を、酸水素炎により火炎加水分解し、生成する微粒子シリカを耐熱性基体上に堆積させてシリカガラスの多孔質母材を製造し、該シリカガラスの多孔質母材を1×10-2トール以上の高真空度で加熱して、透明な石英ガラスを形成し、該透明石英ガラスを均質化処理することにより、少なくとも一方向に脈理を有しない高均質石英ガラスを形成し、該高均質石英ガラスを成形後アニール処理することを特徴とするエキシマレーザー用石英ガラス部材の製造方法。
IPC (4件)：
C03B 20/00
, C03B 8/04
, C03B 25/00
, H01S 3/00
