特許
J-GLOBAL ID：200903051530743941
合成樹脂粒体に同伴する微粉体の除去装置及び貯留基地
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
前田 純博
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-063919
公開番号（公開出願番号）：特開平6-270145
出願日： 1993年03月23日
公開日（公表日）： 1994年09月27日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】 16メッシュパスの微粉体の同伴量が40ppm 以下で且つ異物の混入の少ない合成樹脂粒体を常に供給することのできる微粉体の除去装置及び合成樹脂粒体貯留基地を提供する。【構成】 屈折した合成樹脂粒体の落下通路の上部に合成樹脂粒体供給口1と該供給口近傍に排気口4を設け、該落下通路の下部に合成樹脂粒体排出口2と該排出口近傍に非イオン化気体吹込口3を設け且つ該落下通路の内壁に複数のイオン化気体吹込口5を設けて該落下通路内を跳躍移行する合成樹脂粒体を該落下通路内を通過するイオン化気体と接触させるようになした合成樹脂粒体に同伴する微粉体の除去装置、及び上記微粉体の除去装置を特定の場所に設けた合成樹脂粒体貯留基地。
請求項（抜粋）：
屈折した合成樹脂粒体の落下通路の上部に合成樹脂粒体供給口と該供給口近傍に排気口を設け、該落下通路の下部に合成樹脂粒体排出口と該排出口近傍に非イオン化気体吹込口を設け且つ該落下通路の内壁に複数のイオン化気体吹込口を設けて該落下通路内を跳躍移行する合成樹脂粒体を該落下通路内を通過するイオン化気体と接触させるようになしたことを特徴とする合成樹脂粒体に同伴する微粉体の除去装置。
IPC (4件)：
B29B 13/00
, B07B 4/04
, B07B 11/02
, B65G 53/04
