マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、及び露光用マスクの製造方法、並びに、マスクブランク、及び露光用マスク

発明者： , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：藤村康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-128259
公開番号（公開出願番号）：特開2007-298858
出願日： 2006年05月02日
公開日（公表日）： 2007年11月15日
要約：

【課題】基板全体を平均的に洗浄する必要が無く、狙った部分のみをより高い清浄度にするのに適した工程を有するマスクブランク用基板の製造方法等を提供する。【解決手段】マスクブランク用基板の表面に存在する異物3を液体1で覆う工程と、前記異物3を覆う液体1を固体化させる工程と、前記異物3を覆う液体を固体化させた固体化体1’を基板2表面から取り除くことによって前記固体化体と一緒に前記異物を基板表面から取り除く工程と、を有することを特徴とするマスクブランク用基板の製造方法。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

マスクブランク用基板の表面に存在する異物を液体で覆う工程と、前記異物を覆う液体を固体化させる工程と、前記異物を覆う液体を固体化させた固体化体を基板表面から取り除くことによって前記固体化体と一緒に前記異物を基板表面から取り除く工程と、を有することを特徴とするマスクブランク用基板の製造方法。

IPC (3件)：

G03F 1/08 , H01L 21/027 , C03C 23/00

FI (3件)：

G03F1/08 X , H01L21/30 502P , C03C23/00 A

Fターム (5件)：

2H095BA01 , 2H095BB20 , 2H095BB30 , 4G059AA01 , 4G059AC03

引用特許：

出願人引用 (2件)

ガラス基板洗浄方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-217060 出願人：富士通株式会社
フォトマスク用石英基板の洗浄方法及び洗浄装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-321627 出願人：信越化学工業株式会社

審査官引用 (9件)

付着物剥離方法および付着物剥離装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-281627 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、及び露光用マスクの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-242628 出願人：HOYA株式会社
洗浄方法およびその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-068438 出願人：東芝電子エンジニアリング株式会社, 株式会社東芝

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