特許

J-GLOBAL ID：200903051554603229

投影露光方法及びそれを用いた投影露光装置

発明者： 折井 誠司
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-100677
公開番号（公開出願番号）：特開平7-283130
出願日： 1994年04月14日
公開日（公表日）： 1995年10月27日
要約：

【要約】【目的】 線群パターンの線幅の広い領域において高解像度の投影パターン像が得られる投影露光方法及びそれを用いた投影露光装置を得ること。【構成】 照明系からの光束で斜方向から照明した微細パターンを投影光学系により基板面上に投影露光する際、該微細パターン面上に直交する2線群の座標上の角度を各々0度,90度としたとき該照明系は該微細パターン面上の照明を0度,45度,90度の3つの線群と該投影光学系の光軸によって形成される3つの入射平面に沿った方向からの照射光強度を135度の線群と光軸によって形成される入射平面に沿った方向からの照射光強度に比べて弱くなるようにして行い、該投影光学系の瞳面近傍に設けた振幅分布制御フィルターにより該微細パターンからの回折光のうち0次回折光及び+1次回折光又は-1次回折光のうち一方の回折光を減衰させていること。

請求項（抜粋）：

照明系からの光束で斜方向から照明した微細パターンを投影光学系により基板面上に投影露光する際、該微細パターン面上に直交する2線群の座標上の角度を各々0度,90度としたとき該照明系は該微細パターン面上の照明を0度,45度,90度の3つの線群と該投影光学系の光軸によって形成される3つの入射平面に沿った方向からの照射光強度を135度の線群と光軸によって形成される入射平面に沿った方向からの照射光強度に比べて弱くなるようにして行い、該投影光学系の瞳面近傍に設けた振幅分布制御フィルターにより該微細パターンからの回折光のうち0次回折光及び+1次回折光又は-1次回折光のうち一方の回折光を減衰させていることを特徴とする投影露光方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03B 27/32 ,  G03F 7/20 521

FI (3件)：

H01L 21/30 514 C ,  H01L 21/30 515 D ,  H01L 21/30 527