特許

J-GLOBAL ID：200903051559366519

ポリオキシエチレン脂肪酸アミドスルホコハク酸エステル塩型界面活性剤、該界面活性剤の製造方法および洗浄剤組成物

発明者： 藤井 保 ,  關戸 博孝 ,  薄羽 恭謙
出願人/特許権者： 川研ファインケミカル株式会社
代理人 (1件)： 本多 小平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-351506
公開番号（公開出願番号）：特開平7-197078
出願日： 1993年12月29日
公開日（公表日）： 1995年08月01日
要約：

【要約】【目的】 起泡力・洗浄力に優れ、しかも皮膚や毛髪に対する刺激が少なく、さらに耐寒性に優れたポリオキシエチレン脂肪酸アミドスルホコハク酸エステル塩型界面活性剤を提供する。【構成】 一般式(1)【化1】(式中、RCOは炭素数6〜22の直鎖もしくは分岐鎖の飽和または不飽和の脂肪酸残基、nは1以上の整数を表す)で示されるアミドエステルの含有率が、1.5wt%以下であることを特徴とする、一般式(2)【化2】(式中、RCO、nは前記定義に同じ。X1、X2のいずれか一つは水素原子を表し、他の一つは-SO3M2基を表し、M1、M2は、同一またはそれぞれ互いに独立に、水素あるいはスルホン化剤に含まれるアルカリ金属原子、アルカリ土類金属原子、アンモニウム基、アルカノールアミンのカチオン性残基、または塩基性アミノ酸のカチオン性残基を表す)で示されるポリオキシエチレン脂肪酸アミドスルホコハク酸塩型界面活性剤。

請求項（抜粋）：

一般式(1)【化1】(式中、RCOは炭素数6〜22の直鎖もしくは分岐鎖の飽和または不飽和の脂肪酸残基、nは1以上の整数を表す)で示されるアミドエステルの含有率が、1.5wt%以下であることを特徴とする、一般式(2)【化2】(式中、RCO、nは前記定義に同じ。X1、X2のいずれか一つは水素原子を表し、他の一つは-SO3M2基を表し、M1、M2は、同一またはそれぞれ互いに独立に、水素あるいはスルホン化剤に含まれるアルカリ金属原子、アルカリ土類金属原子、アンモニウム基、アルカノールアミンのカチオン性残基、または塩基性アミノ酸のカチオン性残基を表す)で示されるポリオキシエチレン脂肪酸アミドスルホコハク酸塩型界面活性剤。

IPC (5件)：

C11D 1/28 ,  A61K 7/075 ,  A61K 7/50 ,  C07C303/20 ,  C07C309/58

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭56-082898
  
• 特開昭56-082898