特許
J-GLOBAL ID：200903051565844988
セラミックスシンチレータ材料
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大場 充
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-189646
公開番号（公開出願番号）：特開平7-041760
出願日： 1993年07月30日
公開日（公表日）： 1995年02月10日
要約：
【要約】【目的】 身体頭頂部の断面を画像処理する場合にもアーチファクトを生じることがないX線CT装置用シンチレータ材料を提供する。【構成】 R2O2S(ただし、RはY,La及びGdから成る群の中から選ばれる少なくとも1種の元素を示す)系セラミックスシンチレータ材料において、ホウ素含有率が300ppm以下であることを特徴とするセラミックスシンチレータ材料。
請求項（抜粋）：
R2O2S(ただし、RはY,LaおよびGdからなる群の中から選ばれる少なくとも1種の元素を示す)系セラミックスシンチレータ材料において、ホウ素含有率が300ppm以下であることを特徴とするセラミックスシンチレータ材料。
IPC (2件)：
C09K 11/84 CPD
, C09K 11/00
