特許

J-GLOBAL ID：200903051575259919

投影光学系、投影光学系の調整方法、投影露光装置、投影露光方法、および投影露光装置の調整方法

発明者： 小松田 秀基
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 山口 孝雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-307903
公開番号（公開出願番号）：特開2006-120899
出願日： 2004年10月22日
公開日（公表日）： 2006年05月11日
要約：

【課題】 たとえば屈折面や反射面の表面粗さなどに起因する散乱光の影響を実質的に受けることなく、有効結像領域の全体に亘って所望線幅のパターン像を得ることのできる投影光学系。【解決手段】 第1面(M)の像を第2面(W)上に形成する本発明の投影光学系は、第1面と第2面との間の光路中の所定位置に配置されて第2面上の有効結像領域に達するフレア光の分布を所定分布にするための所要の拡散度分布を有する拡散面を備えている。拡散面は、投影光学系の瞳位置から実質的に離れた所定位置に配置された平面反射鏡(M0)の反射面に形成されている。【選択図】 図2

請求項（抜粋）：

第1面の像を第2面上に形成する投影光学系において、 前記第1面と前記第2面との間の光路中の所定位置に配置されて前記第2面上の有効結像領域に達するフレア光の分布を所定分布にするための所要の拡散度分布を有する拡散面を備えていることを特徴とする投影光学系。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20

FI (4件)：

H01L21/30 531A ,  G03F7/20 503 ,  H01L21/30 515D ,  H01L21/30 517

Fターム (7件)：

2H097CA15 ,  2H097GB04 ,  2H097LA10 ,  5F046BA05 ,  5F046CB01 ,  5F046GB00 ,  5F046GB01