特許
J-GLOBAL ID：200903051581812921
半導体ウェーハ処理装置及びその処理方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-000165
公開番号（公開出願番号）：特開平6-204129
出願日： 1993年01月05日
公開日（公表日）： 1994年07月22日
要約：
【要約】【目的】処理時間として加算される搬送時間を少くして処理能力の向上が図る。【構成】ウェーハに紫外線を照射して処理する半導体ウェーハ処理装置及びその処理方法であって、間欠的にウェーハを搬送する供給部2bと収納部2cを並べ方向変換部2aを交差して連結し構成され床面積に効率良く配置された搬送経路の長い搬送ラインと、この搬送ラインの照射台1a,1b,1cのウェーハの載置部3bに対応して独立して複数の紫外線照射部13を設け、この紫外線照射部13を制御してウェーハを搬送しながら紫外線を照射し照射時間を積算し、搬送ラインのウェーハ搬出口よりウェーハが搬出するまでに所定の照射時間を達成させウェーハの処理を完了させることによって、紫外線の照射時間が搬送時間内に含めている。
請求項（抜粋）：
半導体ウェーハを載置する複数の載置部を所定の間隔をおいて有する長尺の照射台と前記半導体ウェーハを前記載置部間を順次一方向に送る送り機構とをもつとともに前記半導体ウェーハの搬出入口を同一側に向け間隔を空けて並べ配置される少なくとも二列の第1及び第2の搬送部と、この第1及び第2の搬送部の間に配置され前記第1の搬送部より送られる前記半導体ウェーハを載置する前記載置部を少くとも一つをもつ前記照射台を有するとともに前記半導体ウェーハを前記第2の搬送部に送る送り機構を具備する方向変換搬送部と、前記第1及び第2の搬送部並びに前記方向変換搬送部の前記載置部に対応し独立に設けられる複数の紫外線照射部とを備え、前記第1の搬送部の前記搬入口より前記半導体ウェーハが搬入されたとき、前記搬入口に近い順に前記紫外線照射部の紫外線照射を開始し、前記第1の搬送部から前記方向変換搬送部へ方向変換搬送部から第2の搬送部へ前記半導体ウェーハを搬送しながら紫外線を照射して処理することを特徴とすることを半導体ウェーハ処理装置。
IPC (2件)：
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