特許
J-GLOBAL ID:200903051587918128

投影型X線顕微鏡

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 西澤 利夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-329645
公開番号(公開出願番号):特開2003-131000
出願日: 2001年10月26日
公開日(公表日): 2003年05月08日
要約:
【要約】【課題】 実験室レベルで簡便に利用可能であり、かつ、高い分解能を持つX線顕微鏡を提供する。【解決手段】 電子ビームをX線ターゲットに照射しX線を発生せしめ、発生したX線を試料に投影し、試料のX線透過像を撮像する投影型X線顕微鏡において、X線ターゲットが軽元素膜と軽元素膜上に固定された金属片とからなり、X線ターゲットを構成する金属片上方に電子ビームに照射することで金属片下方における径が数十nmの範囲の領域からX線を発生する。
請求項(抜粋):
電子ビームをX線ターゲットに照射することでX線を発生し、発生したX線を試料に投影し、試料のX線透過像を撮像する投影型X線顕微鏡において、X線ターゲットが軽元素膜と軽元素膜上に固定された金属片とからなり、X線ターゲットを構成する金属片上方に電子ビームに照射することで金属片下方における径が数十nmの範囲の領域からX線を発生することを特徴とする投影型X線顕微鏡。
IPC (3件):
G21K 7/00 ,  G21K 5/08 ,  H01J 35/08
FI (3件):
G21K 7/00 ,  G21K 5/08 X ,  H01J 35/08 A

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